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簡要描述：Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM鍍膜在1030±30 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值，50 fsec脈沖，800 nm典型值和高反射率（R> 99.7％）
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2021-03-19訪 問 量：856詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM
Eksma FEMTOLINE激光反射鏡 1030 NM
鍍膜在1030±30 nm的Femtoline激光后視鏡具有> 100 mJ / cm2的高激光損傷閾值，50 fsec脈沖，800 nm典型值和高反射率（R> 99.7％）
產(chǎn)品介紹
Ø在1030±30 nm處鍍膜
Ø激光損傷閾值：> 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型值為800 nm
Ø由UVFS或BK7制造
Ø提供25.4或50.8mm尺寸
具有高激光損傷閾值的高反射率（R> 99.7％）電介質(zhì)鍍膜被應用在激光后視鏡上。建議將UVFS基板用于高功率激光應用。背面可以鍍增透膜，可根據(jù)要求避免從二表面反射回來。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號
BK7 Rear Mirrors at 1030 nm
| 型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | 基材 | 半徑 |
| 032-1030-i0 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-plano | ∞ |
| 012-8005 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -50 mm |
| 012-8010 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -100 mm |
| 012-8015 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -150 mm |
| 012-8020 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -200 mm |
| 012-8025 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -250 mm |
| 012-8050 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -500 mm |
| 012-8100 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -1000 mm |
| 012-8200 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -2000 mm |
| 012-8250 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -2500 mm |
| 012-8400 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -4000 mm |
| 012-8500 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -5000 mm |
| 012-9010 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 100 mm |
| 012-9020 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 200 mm |
| 012-9050 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 500 mm |
| 012-9100 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 1000 mm |
| 012-9200 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 2000 mm |
| 012-9400 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 4000 mm |
| 035-1030-i0 | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 1030±30 nm | Plano-plano | ∞ |
| 015-8005 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -50 mm |
| 015-8010 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -100 mm |
| 015-8015 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -150 mm |
| 015-8020 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -200 mm |
| 015-8025 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -250 mm |
| 015-8050 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -500 mm |
| 015-8100 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -1000 mm |
| 015-8200 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -2000 mm |
| 015-8250 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -2500 mm |
| 015-8400 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -4000 mm |
| 015-8500 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -5000 mm |
| 015-9010 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 100 mm |
| 015-9020 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 200 mm |
| 015-9050 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 500 mm |
| 015-9100 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 1000 mm |
| 015-9200 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 2000 mm |
| 015-9400 | BK7 | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 4000 mm |
| UVFS Rear Mirrors at 1030 nm 型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | 基材 | 半徑 |
| 042-1030-i0 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-plano | ∞ |
| 022-8005 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -50 mm |
| 022-8010 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -100 mm |
| 022-8015 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | |
| 022-8020 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -200 mm |
| 022-8025 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -250 mm |
| 022-8050 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -500 mm |
| 022-8100 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -1000 mm |
| 022-8200 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -2000 mm |
| 022-8250 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -2500 mm |
| 022-8400 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -4000 mm |
| 022-8500 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -5000 mm |
| 022-9010 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 100 mm |
| 022-9020 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 200 mm |
| 022-9050 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 500 mm |
| 022-9100 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 1000 mm |
| 022-9200 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 2000 mm |
| 022-9400 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 4000 mm |
| 045-1030-i0 | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 1030±30 nm | Plano-plano | ∞ |
| 025-8005 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -50 mm |
| 025-8010 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -100 mm |
| 025-8015 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -150 mm |
| 025-8020 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -200 mm |
| 025-8025 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -250 mm |
| 025-8050 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -500 mm |
| 025-8100 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -1000 mm |
| 025-8200 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -2000 mm |
| 025-8250 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -2500 mm |
| 025-8400 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -4000 mm |
| 025-8500 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-concave | -5000 mm |
| 025-9010 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 100 mm |
| 025-9020 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 200 mm |
| 025-9050 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 500 mm |
| 025-9100 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 1000 mm |
| 025-9200 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 2000 mm |
| 025-9400 | UVFS | ø50.8 x 10 mm | 1030±30 nm | Plano-convex | 4000 mm |
基材
| 材料 | UV級熔融石英或BK7玻璃 |
| S1表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
| S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
| S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
| 直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
| 厚度公差 | ±0.25 |
| 倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
鍍膜
| 技術 | 電子束多層電介質(zhì) |
| 附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑 |
| 通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
| 入射角 | 0-8°（正常） |
| 鍍膜 | 硬電介質(zhì)高反射率R> 99.8％ |
| 激光損傷閾值 | > 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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